Procédés de fabrication en salle blanche

  • Génie physique et systèmes embarqués
  • Matériaux chimie
  • Initiation


  • Formation qualifiante

Objectifs de la formation

  • Découverte des procédés de fabrication salle blanche à travers la réalisation de capacités MOS

Public

Toute personne souhaitant accroitre ses connaissance dans ce domaine

Prérequis

Pas de prérequis

Modalités pédagogiques

Enseignement alternant exposés théoriques, exercices d’application et travaux pratiques

Contenu de la formation

Jour 1 – 8 heures

  • Lithographie 1 (masque oxyde)
  • Gravure sèche RIE oxyde mesure profilomètre
  • Dépôt métal aluminium
  • Lithographie 2 – alignement (masque métal)

Jour 2 – 8 heures

  • Gravure humide métal aluminium (Mes. Prof.)
  • Mesures électriques sous pointes
  • Technique de dépôt ALD
  • Bonding, découpe wafer, AFM

Jour 3 – 4 heures

  • Observation MEB, FIB
  • Caractérisation couche ALD (ellipsométrie)

 

En parallèle des étapes de fabrication en salle blanche, les technologies de microfabrication, l’environnement salle blanche, la purification du silicium et la chimie des résines et des gravures seront présentées.

Évaluation des acquis

Les acquis des apprenants seront évalués au travers d’exercices réalisés tout au long de la formation.

Attestation de formation

Une attestation de formation est transmise aux apprenants à l’issue de la formation professionnelle. Elle certifie le suivi de la formation et l’acquisition des compétences.

Satisfaction des apprenants

Au terme de la formation, les apprenants renseigneront un formulaire de satisfaction.

Financements

Le plan de développement des compétences

Durée

3 jours (20h)

Lieu

ENSICAEN

Prochaine session :

8 juin 2026

Effectif minimum

4 personnes

Tarif

2250 €

net de taxe par personne

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